重大突破！中国新一代光刻机模型亮相
11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。上海微电子装备集团携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。
原文出处：百度热搜 （本文由聚合程序自动采集，版权归原作者所有）
11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。上海微电子装备集团携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。
原文出处：百度热搜 （本文由聚合程序自动采集，版权归原作者所有）